Herstellungsverfahren

Herstellung funktioneller Oxidnitride durch

gezielte Eigenschaftseinstellung auf

molekularer Ebene

- Synthese molekularer Vorstufen

- Pyrolyse in Inert- und Reaktivgas

- Schichtherstellung über Spray Coating,

Dip Coating und Spin Coating

- Pulver- und Bulkherstellung

Ausrüstung

Glove-Box und Schlenkapparaturen

Handhabung und Herstellung luft- und

feuchteempfindlicher Substanzen.

Rohröfen mit Gasmischsystem

Temperaturbehandlung bis 1100 °C in Luft,

Stickstoff, Argon, Formiergas, Ammoniak

und Mischatmosphären.

Spin Coater mit integrierter Hotplate

Schichtabscheidung unter Inertgas bis zu

einer Temperatur von 800 °C.

Kontaktwinkelmessgerät

Charakterisierung des Benetzungsverhal-

tens von Bulk- und Schichtoberflächen.

MATERIALENTWICKLUNGFUNKTIONELLE OXIDNITRIDE

F R A U N H O F E R - I N S T I T U T F Ü R K E R A M I S C H E T E C H N O L O G I E N U N D S Y S T E M E I K T S

1 Molekülstruktur einer metall-

organischen Gallium-Vorstufe.

2 Pyrolyse bei 1100 °C in NH3.

3 Fluoreszierendes, dotiertes

Strontiumaluminat.

4 Spin Coater mit integrierter Hot-

plate bei 800 °C.

Fraunhofer-Institut für Keramische

Technologien und Systeme IKTS

Winterbergstraße 28

01277 Dresden

Ansprechpartnerin

Dr. Isabel Kinski

Telefon 0351 2553-7560

isabel.kinski@ikts.fraunhofer.de

www.ikts.fraunhofer.de

Galliumoxidnitrid: Einstellung des Stick-stoff- zu Sauerstoffverhältnis durch denEinsatz unterschiedlicher molekularerVorstufen.

N/O

Ver

hältn

is 1,6

1,5

1,4

1,3

1,2

1,1

1

GaON 1 GaON 2 GaON 3 GaON 4

2

F R A U N H O F E R I N S T I T U T E F O R C E R A M I C T E C H N O L O G I E S A N D S Y S T E M S I K T S

Fraunhofer Institute for Ceramic

Technologies and Systems IKTS

Winterbergstrasse 28

01277 Dresden, Germany

Contact

Dr. Isabel Kinski

Phone +49 351 2553-7560

isabel.kinski@ikts.fraunhofer.de

www.ikts.fraunhofer.de

Production technique

Production of functional oxide nitrides by

systematic property manipulations on the

molecular level

- Synthesis of molecular precursors

- Pyrolysis under inert and reactive condi-

tions

- Film formation by spray coating, dip coat-

ing and spin coating

- Powder and bulk synthesis

Equipment

Glove-box and Schlenk-apparatuses

Handling and synthesis of substances sensi-

tive to air and humidity.

Tube furnaces equipped with gas mix-

ing system

Temperature treatment up to 1100°C in air,

nitrogen, argon, forming gas, ammonia

and mixed atmospheres.

Hot-plate integrated spin coater

Film deposition under inert conditions up to

a temperature of 800°C.

Contact angle measurement system

Wetting behavior characterization of bulk

and film surfaces.

MATERIAL DEVELOPMENT FUNCTIONAL OXIDE NITRIDES

1 Molecular structure of a metall-

organic gallium precursor.

2 Pyrolysis at 1100°C in NH3.

3 Doped strontium aluminate

phosphor.

4 Hot-plate integrated spin coater

at 800°C.

Gallium oxide nitride: Nitrogen to oxy-gen ratio manipulation by using different molecular precursors.

N/O

rat

io 1.6

1.5

1.4

1.3

1.2

1.1

3

GaON 1 GaON 2 GaON 3 GaON 4

4