氣壓式研磨機 - TOP TECHNO.A16-01)(5).pdf鑽石粒子進行拋光可以得到...
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http://www.toptech.tw 氣壓式研磨機 FS-R/FS-R 分厘卡 精準迅速 完美磨拋 品質穩定 定寸定壓
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氣壓式研磨機
FS-R/FS-R 分厘卡
精準迅速
完美磨拋
品質穩定
定寸定壓
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機台簡介
範例機型 FS-R
快拆式夾具
快速更換樣品夾具
定壓功能
可設定施壓壓力
頭部移動
方便更換支承盤
滴水瓶
裝置氧化鋁粉、
鑽石液
操作面板
觸控式多功能面板
轉速、正反轉及手自動 三點組合
過濾水氣
及油氣潤滑
調壓閥
調整施壓壓力
高效能無刷馬達
低轉速、高扭力使用壽命長
運轉穩定確保研磨拋光精度
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機台簡介
規格 圖號
Ø254 CP0602
Ø304.8 CP0603
or
規格 圖號
Ø254 P25A00010201
Ø304.8 P30E010503
規格 圖號
Ø254 CP0502
Ø304.8 CP0503
P20F0027
滴水機構 1瓶裝
P20F0028
滴水機構 4瓶裝
觸控面板
可調整轉速，設定研磨時
間，操作模式等
可儲存 100組操作模式
專利磁性盤
拋光盤
R-FS-R3
R-FS-R5
R-FS-M-R3
R-FS-M-R5
(micrometer)
定寸調整
調整樣品
研磨深度
附件一
專利研磨盤
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個別施壓
整體施壓
特殊夾具
R3
or ψ32
(ψ40)
R5
整平台
整平塊
P30FA0305
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附件一、定寸調整方式(FS-R-M)
1.將樣品夾具放置於整平塊上,鎖固工件 2.將樣品夾具放回研磨頭.
3.將定寸調整刻度調至0. 4.順時針旋轉,設定研磨深度.
每一小刻度0.01mm
0.1mm
6.研磨完成(注意時間)
樣品厚度研磨掉1mm.
5.研磨深度設定為1 mm.
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絕佳搭配-工作桌
型號 TF01 TF02
尺寸 1000*800*700 mm 1200*1000*700 mm
樣品照
工作桌
多功能工作桌，可放
置機台並提供收納
功能，方便移動。
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技術資料
機型 FS-R FS-R(分厘卡)
盤面尺寸 Ø254mm
(10")
Ø304.8mm
(12")
Ø254mm
(10")
Ø304.8mm
(12")
盤面數量 1 1
研磨數量 R3 : 3個 or R5 : 5個 R3(分厘卡型) or R5(分厘卡型)
研磨尺寸 Ø25 / Ø32 / Ø40mm Ø25 / Ø32 / Ø40mm
空轉噪音值 63~67dB 63~67dB
研磨方式 自動 自動
盤面馬力 850W 850W
個別施壓 1~8kg 1~8kg
整體施壓 6~25kg 6~25kg
盤面轉速 50~600rpm(特殊轉速可訂製) 50~600rpm(特殊轉速可訂製)
研磨頭馬力 90W 90W
研磨頭轉速 80rpm(特殊轉速可訂製) 80rpm(特殊轉速可訂製)
冷卻裝置 1組 1組
時間設定 最大 60000秒(1000分) 最大 60000秒(1000 分)
機台型式 桌上型 桌上型
機台重量 102Kg 110Kg 120Kg 104Kg 112Kg 122Kg
機台尺寸
(寬 x長 x高) 50x80x75cm 50x80x86cm
入水管尺寸 10mm低壓水管(內徑 Ø10mm－外徑 Ø15mm)
出水管尺寸 32mm低壓水管(內徑 Ø32mm－外徑 Ø36mm)
電源 交流 220V單向雙線
標準配件
研磨盤 1個 O型環 1個 防濺蓋 1個
整平塊 1個 水砂紙 8片 拋光絨布 2片
氧化鋁粉 100g 伸縮風管 6米 自動滴瓶機構 1個
本公司保留更改設計的權利，恕不另行通知。
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附件二、機台加購/選購功能
R系列 (個別施壓、整體施壓)- 標準
盤面尺寸 研磨頭(H) 樣品尺寸(標準-S) mm 整平塊
Ø250mm
Ø304.8mm
R3 Ø25(25.4) Ø32(31.75) Ø40 P30FA0305
R5 Ø25(25.4) Ø32(31.75) Ø40
機型 R-FS-R H - S
R-FS-M-R H - S (micrometer)
備註:標準尺寸,樣品夾具可互換.
R系列 (個別施壓、整體施壓)- 加購
R3系列 整平塊
R5系列
A(mm) 圖號 圖號 B(mm)
25 - P30FA0305 P25FA04020820A 25
30 P25FA04020804A P30FA0305 P25FA04020804A-2 30
31.75 P25FA04020805A-1 P30FA0305 P25FA04020803A-1 31.75
32 P25FA04020805A P30FA0305 P25FA04020803A 32
38 P25FA04020813A P30FA0305 38
38.1 P30FA0305 P25FA04020806A 38.1
40 P25FA04020805A-2 P30FA0305 P25FA04020802A 40
45 P25FA04020811A P30FA0305 P25FA04020809A 45
50 - P30FA0305 P25FA04020815A 50
50.8 P25FA0305 P25FA04020814A 50.8
- - - - 60
備註:
1.附件二：支承盤適用於個別施壓、整體施壓。
2.整體施壓需使用整平塊(標配)。
R3 R5
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附件三、機台加購/選購功能
R系列 (整體施壓)-特殊
P25FA04020807A P25FA04020821A P25FA04020822A
P25FA04020812A P25FA04020816A P25FA04020808A
P25FA04020818A P25FA04020810A
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附件四、機台加購/選購功能
R系列 (整體施壓)-特殊
P20Z16A P20Z16C P20Z16D
P20Z16E P20Z16F P25FA04020817A
R系列 (個別施壓)-特殊
P20Z16B P20Z16B1
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耗材
項次 項目 規格 說明
研磨
白金鑽石盤
(PLATINUM)
1號、2號
3號、4號
低硬度到高硬度的鐵系金屬，
以及銅金屬等粗磨及細磨。
水砂紙(無背膠) #60~#2000 一般型、
美規型(耐用度佳，研磨深度穩定)。
水砂紙(背膠) #180~#2000 一般型、
美規型(耐用度佳，研磨深度穩定)。
鑽石
拋光
單晶鑽石懸浮液 1µm、3µm、6µm
、9µm、15µm
鑽石粒子進行拋光可以得到
最佳速度及最好的平面。
Bio Diamante
單晶鑽石懸浮液
1µm、3µm
6µm、9µm
較高黏性的攜帶液，消耗量較少，
適合低使用量的客戶使用。
多晶鑽石懸浮液 0.5µm、1µm、3µm、
6µm、9µm、15µm
鑽石粒子進行拋光可以得到
最佳速度及最好的平面。
Bio Diamante
多晶鑽石懸浮液
1µm、3µm
6µm、9µm
較高黏性的攜帶液，消耗量較少，
適合低使用量的客戶使用。
鑽石膏 1µm、3µm
6µm、9µm
鑽石懸浮液前使用，較高的鑽石濃度
與懸浮比提供較佳的磨削率
氧化物
拋光
氧化鋁粉 0.05µm、0.3µm
1µm、3µm、5µm
對於軟質及具有延展性者，有的良好
拋光品質如印刷電路板、塑膠材料。
最終拋光液 0.05µm、膠質溶液 膠質溶液不會刮傷樣品，並提供令人
滿意的拋光效果。
拋光 拋光布 粗拋光 、細拋光
具有良好的柔軟度及彈性，能有效的
避免樣品刮傷，表面的絨毛可以大量
儲存拋光液，提高拋光效率。
備註: 耗材詳細資料,請參考
http://toptech.synology.me/Consumables/Polisher.pdf
http://www.toptech.tw
我方保留規格變更權利,若有變動恕不另行通知 NO.A16-01
Cutting / Mounting / Grinding & Polishing / Spin Coater
TOP TECH MACHINES CO.,LTD
No.6-3,Siayuan Rd.,Dali,Taichung,412 Taiwan
Tel:886-4-24061658
Fax:886-4-24073200
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E-mail: [email protected]
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