Industrial Instruments General Catalogue DE

Messinstrumente für industrielle Anwendungen – Allgemeiner Katalog 2014

Messinstrumente für industrielle Anwendungen – Allgemeiner Katalog 2014

2

Kameraköpfe für Digitalkameras – DS-Vi1 / DS-Fi2 / DS-Ri1Separate Steuerung – DS-L3

PC-basierte Steuerung – DS-U3

4-5

6

7

8

9

INHALT

Stereomikroskope 3

Industrielle Mikroskope

Aufrechtmikroskope – LV150N / LV150NA / LV100ND / LV100DA-U / L300N / L300ND / L200N / L200NDInverse Mikroskope für die Metallurgie – MA200 / MA100 / MA100LPolarisationsmikroskope – LV100NPOL / Ci POLVielseitig einsetzbare Zoom-Mikroskope – AZ100 / AZ100M

Digitalkameras für Mikroskope

Digitalmikroskope/Berührungslose 3D-Oberflächenprofilometer mit extrem hoher VertikalauflösungDigitalmikroskope – ShuttlePix P-400Rv 3D-Oberflächenprofilometer – BW-D500 Serie / BW-S500 Serie

ObjektiveObjektive – CFI60-2 / CFI60 / CF&IC Nah-Infrarotobjektive – NIR / NIR-C

Für die Bestückung von Mikroskopen/WaferloadernModulare Fokussiereinheiten – IM-4 / LV-IM / LV-FM / LV-FMADynamische Autofokus-Einheit – LV-DAF

Kompakte Auflichtmikroskope – CM SerieWaferloader – NWL200 Serie

10-11CNC Videomesssysteme

CNC Videomesssysteme – NEXIV VMA / VMR / VMZ-R / VMZ-H SerieKonfokale CNC Videomesssysteme – NEXIV VMZ-K Modelle

12MessmikroskopeMessmikroskope – MM-200 / MM-400 / MM-800

13Profilprojektoren / Datenverarbeitungssystem

Profilprofjektoren – V-12B / V-20B / V-24BDatenverarbeitungssoftware – E-MAX

Datenprozessor – DP-E1Messsoftware – U-DP

14Autokollimatoren / DIGIMICROAutokollimatoren – 6B-LED / 6D-LED DIGIMICRO – MF-1001 / MF-501 / MH-15M

15Optisches Ebenheitsmaß / Optisches Parallellitätsmaß / 300 mm Standardmaßband

Paralleloptik – SMZ25 / SMZ18 / SMZ1000 / SMZ800Greenough-Typ – SMZ745 / SMZ745T / SMZ660 / SMZ445 / SMZ460 / SMZ / SM-5 / SM-6

3

Stereomikroskope

Paralleloptik

SMZ445SMZ460

SMZ745SMZ745T SMZ660

SM-5SM-6SMZ

4,3 : 1

3,5 – 60×(7 – 30×)

4,4 : 1

0,8 –3,5×

4 – 70×(8 – 35×)

0,7 –3×

6,3 : 1

0,8 – 5×

4 – 300×(8 – 50×)

(nur SMZ745T)

7,5 : 1

0,67 – 5×

3,35 – 300×(6,7 – 50×)

5 : 1

0,8 – 4×

4 – 120×(8 – 40×)

100 mm115 mm115 mm 77,5 mm 100 mm

10 – 60×(20×)

SMZ25

60 mm

25 : 1

0,63 – 15,75x

3,15 – 945x(6,3 – 157,5x)

SMZ18

60 mm

18 : 1

0,75 – 13,5x

3,75 – 810x(7,5 – 135x)

SMZ1000

70 mm

10 : 1

0,8 – 8x

4 – 480x(8 – 80x)

SMZ800

78 mm

6,3 : 1

1 – 6,3x

5 – 378x(10 – 63x)

SMZ Serie

Greenough-Typ

Die besonders preisgünstigen Modelle der SMZ Serie bestechen durch herausragende optische Leistung, beeindruckende Erweiterungsmöglichkeiten und höchste Ergonomie.

*1: Abhängig davon, welches Okular in Verbindung mit welchem Objektiv verwendet wird. *2: 10× Okular in Verbindung mit 10× Objektiv. *3: 1× Objektiv bzw. ohne Vorsatzobjektiv.

Zoomverhältnis

Zoombereich

Gesamt- vergrößerung*1(Standardkombination*2)

Arbeitsabstand*3

Kamera

: Verfügbar* : Nicht verfügbar


Zoomverhältnis

Zoombereich

Gesamt- vergrößerung*1(Standardkombination*2)

Arbeitsabstand*3

Kamera

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

Kompakte Auflichtmikroskope – CM SerieWaferloader – NWL200 Serie

4

LV100NDLV100DA-UDieses Modell bietet verschiedene Beobachtungsmethoden mit Auflicht- bzw. Durchlicht.

LV150NLV150NALV150NLJe nach Beobachtungsmethode und Einsatzzweck stehen unterschiedliche Stative und Beleuchtungssysteme zur Auswahl.

L300NL300NDErhältlich mit einem Objekttisch mit 350 × 300 mm Verfahrweg. Geeignet für die Prüfung von Wafern bis 300 mm ø.

*nur L200ND

Bei den industriellen Mikroskopen von Nikon kommt die CFI60-2-Optik zum Einsatz, die sich aufgrund ihres einzigartigen Konzepts großer Anerkennung erfreut: Sie gewährleistet hohe numerische Aperturen und große Arbeitsabstände.

Ph-C

• 3 × 2 Objekttisch (Verfahrweg 75 × 50 mm)• 6 × 6 Objekttisch (Verfahrweg 150 × 150 mm)

POLDFRF DIC 2-StrahlFLEPI

**

• Auflicht • Auflicht/Durchlicht

Aufrechtmikroskope (Modelle mit größerem Objekttisch)

Aufrechtmikroskope (Standardmodelle)

LV150N LV100ND

Beobach- tungs- methode

Beleuchtung

Objekttisch

Mikroskope für industrielle Anwendungen

*Informationen zu weiteren passenden Objekttischen finden Sie im Prospekt „LV-N Series“.

• 3 × 2 Objekttisch (Verfahrweg 75 × 50 mm)• 6 × 4 Objekttisch (Verfahrweg 150 × 100 mm)*Informationen zu weiteren passenden Objekttischen finden Sie im Prospekt „LV-N Series“.

EPIDURCHM

RF DF DIC POL FL

*nur L300ND

• 14×12 Objekttisch (Verfahrweg: 350 × 300 mm)

• L300N : Auflicht• L300ND : Auflicht/Durchlicht

• 8 × 8 Objekttisch (Verfahrweg: 200 × 200 mm)

• L200N : Auflicht• L200ND : Auflicht/Durchlicht

EPIHF DF DIC FLS-POL HF DF DIC FLS-POL

EPI




2-Strahl

HF: Hellfeld DF: Dunkelfeld DIC: Differentialinterferenzkontrast FL: Fluoreszenz POL: Polarisation 2-Strahl: Zweistrahl-Interferometrie Ph-C: Phasenkontrast

HF: Hellfeld DF: Dunkelfeld DIC: Differentialinterferenzkontrast S-POL: Vereinfachte Polarisation FL: Fluoreszenz


Beleuchtung

Objekttisch

*

L300ND

L200NL200NDErhältlich mit einem Objekttisch mit 200 × 200 mm Verfahrweg. Geeignet für die Prüfung von Wafern bis 200 mm ø.

L200ND

: Verfügbar* : Nicht verfügbar : Verfügbar* : Nicht verfügbar

DURCHMDURCHM

5

ECLIPSE Serie

Inverse Mikroskope für die Metallurgie

Dank seines einzigartigen Baukörpers in Kastenform ist das MA200 sehr robust, langlebig und platzsparender als herkömmliche Modelle.

MA200

Die MA100 und MA100L Modelle sind kompakte Umkehrmikroskope, die für die Hellfeld- und vereinfachte Polarisationsbeobachtungen entwickelt wurden.

MA100MA100L

LV100NPOLCi POL

Das Multizoom AZ100 und das AZ100M kombinieren die Stärken der Stereomikroskopie mit den Vorteilen von Mikroskopen für die Metallurgie.

AZ100AZ100M

• LV100NPOL : Präzisionsdrehtisch für die Polarisationsbeobachtung• Ci POL : Drehtisch mit Aufspannung

Hochklassige Polarisationsmikroskope mit herausragender optischer Leistung für vielfältige Einsatzbereiche

Polarisationsmikroskope Vielseitig einsetzbare Zoom-Mikroskope

• Auflicht/Durchlicht

AZ100LV100NPOL

MA100L

• Auflicht/Durchlicht • Auflicht

• Auflicht/Durchlicht

EPIRF DF DIC FLS-POL

• MA2-SR Kreuztisch (Verfahrweg 50 × 50 mm) • MA-SR 3-Plattentisch (Verfahrweg 50 × 50 mm)• MA-SP Objekttisch• Ti-SM Anschließbarer Kreuztisch CH (Verfahrweg 126 × 80 mm)

HF DF DIC FLS-POLEPIEPI

HF POL

• 6 × 6 Objekttisch (150 × 150 mm Verfahrweg) für Auflicht

• 6 × 4 Objekttisch (150 × 100 mm Verfahrweg) für Durchlicht

: Verfügbar* : Nicht verfügbar: Verfügbar* : Nicht verfügbar

HF: Hellfeld POL: Polarisation DF: Dunkelfeld DIC: Differentialinterferenzkontrast S-POL: Vereinfachte Polarisation FL: Fluoreszenz

HF: Hellfeld DF: Dunkelfeld DIC: Differentialinterferenzkontrast S-POL: Vereinfachte Polarisation FL: Fluoreszenz

Beobach-tungs-methode

Beleuchtung

Objekttisch

EPIRF DF DIC FLS-POL


Beleuchtung

Objekttisch

: Verfügbar* : Nicht verfügbar: Verfügbar* : Nicht verfügbar

DURCHM

DURCHM

DURCHM

6

Frame-Rate (Bildfrequenz)Max. aufzeichen- bare Pixelzahl 2560 × 1920

27 fps (800 × 600 / )

4076 × 3116 (Pixelverschiebungsmodus)

DS-U3

Die für jeden Messobjekttyp optimalen Parameter für die Bildgebung und Beobachtungsverfahren können einfach über Icons eingestellt werden.

Vielfältige Bearbeitungsfunktionen

Wafer/ICMetall, Keramik/KunststoffLeiterplatteFlachbildschirm

Setzt Bildaufnahmen aus mehreren Sichtfeldern zu einem Einzelbild zusammen

Stitching-Funktion

Erstellt ein tiefenscharfes Einzelbild aus mehreren Bildern, die auf verschiedenen Fokusebenen aufgenommen wurden.

EDF (Extended Depth of Focus)

Kameraköpfe

Steuereinheiten

*Angaben zu weiteren Kameraköpfen finden Sie im Katalog „Digital Sight Series“.

DS-L3Mit dem komfortablen Touchscreen und ihren zahlreichen Funktionen ermöglicht die bedienerfreundliche Steuereinheit DS-L3 schnelle Bildaufnahmen ohne PC oder Computerbildschirm.

Szenenmodus Bildgebungssoftware „NIS-Elements“

1600 × 1200

21 fps (1280 × 960 / ) 19 fps (1280 × 1024 / )

Messung (Zweipunkteabstand)

Zahlreiche Bearbeitungsfunktionen stehen zur Verfügung, deren Ergebnisse mit den Bildern zusammen gespeichert werden können. Die Ausgabe von Messdaten ist unkompliziert.

PC-basierte Steuereinheit

Die Steuereinheit DS-U3 bietet Kontrolle über alle Funktionen vom PC aus – von der Anzeige und Aufnahme von Live-Bildern bis hin zur fortgeschrittenen Bildbearbeitung und -analyse – und eignet sich für vielfältige Einsatzbereiche.

Digitalkamerasystem für MikroskopeDas Kamerasystem ist in verschiedenen Konfigurationen für den individuellen Bedarf erhältlich, wie beispielsweise Farbe/monochrom, mit/ohne Kühlung, mit 5,0/2,0 Megapixel. Das DS Kamerasystem lässt sich auf vielerlei Weise mit Kameraköpfen und eigenständigen oder PC-basierten Steuerungen kombinieren.

„Digital Sight“ (DS) Serie

Eigenständige Steuereinheit

Messfunktionen

ZeichenfunktionenFunktionen für Positions- und Größenvergleiche


DS-Vi1

Schnelligkeit: Farbkamerakopf

DS-Fi2 DS-Ri1

Hochauflösender Farbkamerakopf mit Kühlung

Extrem hochauflösender Farbkamerakopf mit Kühlung

7

Motorisiertes Fokussierstativ + Touchscreen

Handgeführte Variante Einfaches Stativ

Diese Komplettausstattung umfasst einen akkubetriebenen Zoom-Kamerakopf und ein platzsparendes einfaches Auflichtstativ. Beide Einheiten sind überall einsetzbar für die Aufnahme hochauflösender Bilder.

Der leichte, ergonomische Kamerakopf lässt sich einfach bedienen.

Die intuitive Bedienung über Icons oder per Touchscreen-Stift ermöglicht präzise Bildaufnahmen und einfache Messungen.

Die von Nikon entwickelte optische Interferenzmesstechnik mit Scanningfunktion erzielt eine Höhenauflösung von 1 pm. Diese Technik eignet sich für verschiedenste Anwendungen bei glänzenden Oberflächen, wie beispielsweise Siliziumwafern, Glas und Metallfilmen.

1 pm

< 4,458 × 4,448 µm**Der Anzeigebereich kann durch Änderung der Relaisoptik oder Nutzung der Stitching-Funktion erweitert werden.

510 × 510

4 s (10 µm Scannen)

< 2,015 × 2,015 µm*

2.046 × 2.046


1.022 × 1.022


Linsen GlasPolierte Keramikoberfläche Metallätzung Glanzpapier

High-Speed-VarianteBW-D500 Serie

Hochauflösende VarianteBW-S500 Serie

Erweiterte Tiefenschärfe mit nur einem Klick

Digitale Mikroskope ShuttlePix P-400RvEin innovatives, einzigartiges Digitalmikroskop, das mobil und angedockt an einem Stativ eingesetzt werden kann. Es eignet sich sowohl zur Prüfung von Proben jeder Größenordnung als auch zur Aufnahme hochauflösender Bilder und Ausführung unterschiedlichster Messaufgaben.

Berührungslose 3D-Oberflächenprofilometer mit extrem hoher Vertikalauflösung

BW-D500 Serie/BW-S500 Serie


Bilder mit erweiterter Tiefenschärfe (Extended depth of Field - EDF) lassen sich einfach durch Auswahl der Start- und Endposition einer Probe erfassen.

Höhenauflösung(Algorithmus)Stufenhöhen-messung WiederholgenauigkeitPixelanzahlHöhen- messung DauerSichtfeld (FOV)

σ: 8 nm (8 µm Stufenhöhenmessung)

BW-S507

8

CFI60-2 / CFI60 / CF&ICDie legendären Optiksysteme CFI60-2/CFI60/CF&IC verbinden in einmaliger Weise hohes Auflösungsvermögen mit großen Arbeitsabständen. Diese Objektive wurden weiterentwickelt und erzielen nun in jeder Hinsicht – bei Arbeitsabständen, chromatischer Aberationskorrektur und Gewichtseinsparung – optimale Ergebnisse.

Erzielt einen hohen Transmissionsgrad von 90 % oder mehr im sichtbaren Lichtspektrum und 1.064 nm. Erheblich verbesserte Bearbeitungsgenauigkeit bei kleiner Größe und niedrigem Energieverbrauch. Geeignet für Laserreparaturen an Halbleitern und flachen Anzeigetafeln.

*A: Prismenposition bei A/B: Prismenposition bei B

Nah-Infrarotobjektive NIR/NIR-C


*1: Bitte wenden Sie sich an uns, wenn Sie einen Transmissionsgrad außerhalb des sichtbaren Bereichs und von 1.064 nm benötigen. *2: Die Messung des Arbeitsabstands erfolgt ab Oberseite des Messobjekts mit 1,1 mm starkem Deckglas. *3: Da eine Verschiebung in der Abgleichposition auftritt, wenn Objektive ohne Deckglas zwischen Objekt und Linse verwendet werden, wird die Abgleichlänge durch Korrekturringe angepasst.

: Verfügbar/ : Nicht verfügbar

Objektive

HF: Hellfeld DF: Dunkelfeld POL: Polarisation S-POL: Vereinfachte Polarisation DIC: Differentialinterferenzkontrast UV-FL: UV-Fluoreszenz FL: Epifluoreszenz

NIR, Nahinfrarot PlanNIR-C,Nah-Infrarot Plan (Glasstärken-Korrekturbereich 0,3 – 1,1 mm)

Modell Vergrößerung N.A. Arbeitsabstand (mm)

20× 0,40 25,0 50× 0,42 20,0 20× 0,40 24,0 50× 0,42 19,0

Wellenlänge (n.m) Parfokaler Abstand (mm)

1.064/5321.064/5321.064/5321.064/532

95959595

*3

*3

*2

*2

*1

*1

1× 0,03 3,8 2,5× 0,075 6,5 5× 0,15 23,5 10× 0,3 17,5 20× 0,45 4,5 50× 0,8 1,0 100× 0,9 1,0 50× 0,8 2,0 100× 0,9 2,0 150× 0,9 1,5 5× 0,15 23,5 10× 0,3 17,5 20× 0,45 4,5 50× 0,8 1,0 100× 0,9 1,0 20× 0,4 19,0 50× 0,6 11,0 100× 0,8 4,5 10× 0,2 37,0 20× 0,3 30,0 50× 0,4 22,0 100× 0,6 10,0 5× 0,15 18,0 10× 0,3 15,0 20× 0,45 4,5 50× 0,8 1,0 100× 0,9 1,0 50× 0,8 2,0 100× 0,9 2,0 150× 0,9 1,5 20× 0,4 19,0 50× 0,6 11,0 100× 0,8 4,5 40× 0,65 1,0 150× 0,95 0,3 100× 0,9 0,51 150× 0,9 0,42 20× 0,45 10,9-10,0 50× 0,7 3,9-3,0 100× 0,85 1,2-0,85 100× 0,85 1,3-0,95 2,5× 0,075 8,8 5× 0,13 22,5 10× 0,3 16,5 20× 0,46 3,1 50× 0,8 0,54 100× 0,95 0,3 50× 0,95 0,4 100× 0,95 0,3 150× 0,95 0,2 20× 0,4 11 50× 0,55 8,7 100× 0,8 2 10× 0,21 20,3 20× 0,35 20,5 50× 0,45 13,8 100× 0,73 4,7 2,5× 0,075 10,3 5× 0,13 9,3 10× 0,3 7,4 20× 0,4 4,7 50× 0,55 3,4 100× 0,7 2,0

T Plan EPI Plan (Halb-Apochromat)TU Plan Fluor EPIUniversalobjektiv Plan Fluor (Halb-Apochromat)

TU Plan Apo EPI Universalobjektiv Plan Apo (Apochromat)

TU Plan Fluor EPI P Plan Fluor, polarisierend (Halb-Apochromat)

TU Plan BD ELWD Langer Arbeitsabstand Universalobjektiv Plan (Halb-Apochromat)

T Plan EPI SLWD Extra langer Arbeitsabstand Plan (Halb-Apochromat)

TU Plan Fluor BD Universal Plan Fluor (Halb-Apochromat)

TU Plan Apo BDUniversalobjektiv Plan Apo (Apochromat)

TU Plan BD ELWD Langer Arbeitsabstand Universalobjektiv Plan (Halb-Apochromat)

L Plan EPI CRLCD Substrate Inspection Plan (Achromat)

CF IC EPI Plan TI DIC Plan CF IC EPI Plan DIDIC Plan

CF IC EPI Plan TIPlan (Achromat)

L Plan EPI (Achromat)LU Plan Apo EPI/Universalobjektiv Plan Apo (Apochromat)CFI LU Plan Apo BDUniversalobjektiv Plan Apo (Apochromat)

*Angebot solange Vorrat reicht

CF IC EPI Plan ApoPlan Apo (Apochromat)

CF IC EPI Plan ELWDLanger Arbeitsabstand Plan (Achromat)

CF IC EPI Plan SLWDExtralanger Arbeitsabstand Plan (Achromat)

VergrößerungModell NA Arbeitsabstand (mm) HF DF POL S-POL DIC UV-FL FL

AAAAAAAAAAAAABBB

AAAAAAAABBB

AAA

9

Für die Bestückung von Mikroskopen

WaferloaderDie im Hause Nikon entwickelte Technologie ermöglicht die zuverlässige Aufnahme extrem dünner 100 μm Wafer. Die Geräte der NWL 200-Reihe gewährleisten zuverlässige Ladevorgänge und eignen sich für die Prüfung von Halbleitern der nächsten Generation.

ø 200 mm/ø 150 mm/ø 125 mm300 μm

300 – 100 μm

Durchmesser.Wafer Stärke (Standard) Stärke (Option)Makro-Prüfung der Oberfläche und rückseitigen Peripherie

LV-DAFDynamische Autofokus-Einheit

Der hybride Autofokus zeichnet sich durch einen großen Fokusbereich und eine schnelle Zielverfolgung aus. Verschiedenste Beobachtungsmethoden, einschließlich Hellfeld, Dunkelfeld und DIC, sind möglich. Sowohl reflektierende als auch transparente Messobjekte können beobachtet werden.

IM-4, LV-IM/LV-IMA, LV-FM/LV-FMAModulare Fokussiereinheiten

Diese Fokussiereinheiten, die als Erweiterungsmöglichkeit für Gesamtsysteme geeignet sind, ermöglichen die Anbringung einer vielseitig einsetzbaren Beleuchtung und eines motorisierten Objektivrevolvers.

CM SerieKompakte Auflichtmikroskope

Äußerst platzsparende Auflichtmikroskope, die für die Integration in Fertigungslinien und Beobachtung über den Bildschirm entwickelt wurden.

KameraaufnahmeTubuslinsen VergrößerungKompatible ObjektiveOptiksystem-BeleuchtungAufsatzflächen

CM-5A

1×

3

CM-10A/CM-10L CM-20A/CM-20L

A-Serie: CF IC EPI Plan Objektive/ L-Serie: CFI60-2/ CFI60 EPI Plan Objektive0,5×

CM-30A/CM-30L

1×

4Köhlersche Beleuchtung (erstklassige telezentrische Lichtführung)

C-Mount (ENG-Mount optional möglich)

Manuell30 mm

Typ Vertikaler Verfahrweg

IM-4 LV-IM/LV-IMA LV-FM/LV-FMA

Schnittbildprojektion/KontrasterkennungNah-Infrarot-LED (λ=770 nm)

innerhalb von 0,7 s (Objektiv: 20×, Abstand von Brennfleck: 200 μm) Hellfeld, Dunkelfeld, Polarisation, DIC

ErkennungssystemAF LichtquelleFokussiergeschwindigkeitBeobachtung

Manuell / Motorisiert30/20 mm

LV-FMA

LV-IMA

NWL200-Reihe


Manuell / Motorisiert30/20 mm

10

Sichtfeld B(mm)× T(mm)

Zoomkopf mit weitem Sichtfeld variante A Stardandkopf Variante 1 Variante 2 Variante 3 Variante 4 Variante TZ

Grundgerät (Typ/Objekttisch-Verfahrweg)

VMR/VMZ-RVMR: VMR-1515/VMR-3020/VMR-6555/VMR-10080/VMR-12072VMZ-R: VMZ-R3020/VMZ-R4540/VMZ-R6555

VMR-HVMR-H3030

VMAVMA-4540 SerieVMA-2520 Serie

Standardausführung Variante mit hoher Genauigkeit Variante mit großem Sichtfeld

Zoomköpfe

Typ Verfahrweg in XY (mm)

Zoomkopf für weites SichtfeldStandardkopfHochauflösender ZoomkopfVerfahrweg in Z (mm)

Max. garantierte Tragfähigkeit (kg)

Max. zulässige Abweichungen (μm) EUX, MPE:Max. zulässige Abweichungen in der Z-Achse (μm) EUZ, MPE:*1

Weites Sichtfeld Standard

300 × 200 450 × 400 650 × 550 1000 × 800 1200 × 720Hohe Genauigkeit

300 × 300

73,5 mm

9,8 mm

50 mm

Ausgestattet mit ober-, unterseitiger und geneigter Ringbeleuchtung mit einstellbaren Winkeln. Der TTL (Through The Lens) Laser-Autofokus ist eine Standardfunktion, die Oberflächen mit bis zu 1000 Punkten/Sekunde messen kann.

Variante TZ

Ausgestattet mit 8-stufigem Zoom mit extrem hohem 1 – 120-fachen Brennweitenfaktor Geeignet für die Messung kleiner Muster im Bereich mehrerer Mikrometer.

Variante A

Ein weites Sichtfeld und ein großer Arbeitsabstand sorgen für eine bequeme Bedienung. Ein Laser AF und ein Messtaster sind als optionales Zubehör erhältlich.*Die Messtasteroption gilt nur für die VMA Serie.

450 × 400

Modell

iNEXIV VMA-4540 NEXIV VMR-H3030NEXIV VMZ-R4540NEXIV VMZ-R3020

13,310,0

9,337,01

7,85,8

4,73,5

2,61,9

2,331,75

1,331,00

1,1650,875

0,6220,467

0,5820,437

0,3110,233

0,2910,218

0,1550,117

0,1460,109

0,0700,068

0,0730,055

0,0390,029

30 mm

CNC VideomesssystemeZur Auswahl stehen verschiedenste Tischausführungen und Vergrößerungen für individuelle Kundenanforderungen.

NEXIV Serie


Modell Modell

20015

1,5 + 4L/10001,5 + L/150

15020

1,5 + 4L/10001,5 + L/150

15030

0,6 + 2L/10000,9 + L/150

15040

2,2 + 4L/10001,5 + L/150

15040

2 + 4L/10001,5 + L/150

20050

1,2 + 4L/10001,2 + 5L/1000

20040

1,2 + 4L/10001,2 + 5L/1000

20020

1,2 + 4L/10001,2 + 5L/1000

Hochauflösender Zoomkopf

Arbeitsabstand

150 × 150250 × 200

20020

2 + 6L/10003 + L/100

L = Länge in mm *1: mit Laser AF oder Messtaster

Variante 1 – 4

11

VMZ-K6555

Kontur 3D-AnsichtHellfeld

Die konfokale NEXIV Serie umfasst konfokale Optiken für die schnelle und genaue Auswertung feiner dreidimensionaler Geometrien. Die konfokalen Optiken wurden für Höhenmessungen mit weitem Sichtfeld entwickelt.

Arbeitsabstand24 mm

20 mm

24 mm

5 mm

5 mm

86

43

2,01,5

1,61,2

1,000,75

0,80,6

0,630,47

0,530,40

0,40,3

0,300,23

0,270,20

0,200,15

0,110,08

0,1000,074

0,050,04

1,260,95

Hellfeld-OptikenKonfokale Optiken Sowohl Hellfeld- als auch 3D-Bilder stehen zur Verfügung

300 × 4001,5× / 3× / 7,5×

15× / 30×15020

1.5 + 2.5L / 10001 + L / 1000

Verfahrweg in XY (mm)

Vergrößerung (Typ S)

Vergrößerung (Typ H)

Verfahrweg in Z (mm)

Max. garantierte Tragfähigkeit (kg)

MPE (zulässige Messabweichung) U1X, U1Y (μm)

Zulässige Messabweichung in Z (μm)

VMZ-K3040

650 × 5501,5× / 3× / 7,5×

15× / 30×15030

1.5 + 2.5L / 10001 + L / 1000

Kontrastreiches, mehrschichtiges Messobjekt (PCB) Dünne, transparente Messobjekte (Metallflächenbeschichtung/Halbleiterschutzschicht)

Schwer erkennbare Layer mit dünner Beschichtung

Grundgerät (Typ/Objekttisch-Verfahrweg)

Zoomköpfe

Aufgrund verzeichneter Linien in der Objektstruktur ist die Hellfeldbeobachtung manchmal schwierig. Die konfokale Optik ermöglicht eine genaue Betrachtung und Messung dieser Linien. REM-Bild

Konfokales Bild

Außerdem lassen sich die oberen Schichten sowohl dünner, transparenter Beschichtungen als auch die von Metalloberflächen einfach mit dieser Optik erkennen.

Hellfeldbild

Die oberen und unteren Layer werden genau erkannt

Erkannte Oberseite Erkannte Unterseite

Konfokale NEXIV SerieMöglichkeit der gleichzeitigen Weitfeld-Höhenmessung mit konfokaler Optik und 2D-Messung mit Hellfeld-Zoomoptik in 15-facher Vergrößerung.

Sichtfeld B(mm)× T(mm)

Typ S 1,5× 3× 7,5×Typ H 15× 30×


Hellfeldbild

Konfokales Bild

Dünne Schicht

Metall- oberfläche

12

*Nur für einfachen Videokopf

Universelle Variante

MM-400MM-200

Zur Auswahl steht ein Sortiment, das für die dimensionale Messung und zahlreiche Beobachtungsmethoden geeignet ist.

Kompaktes Modell Grundmodell

MM-Typ

Das neu entwickelte FA Teilungsprisma liefert gestochen scharfe Muster für die Fokussierung von Messungen in der X-Achse.FA Matrixmuster sind klar erkennbar, da der Schnitt durch die Vertikale geht.

Vorderer Fokus Fokussiert Hinterer Fokus

Objektiv

Fokussierassistent (FA)

Der Grob-/Feintriebwechsler und die RESET und SEND Tasten befinden sich neben Einstellknöpfen für die X- und Y-Achse.

Neu entwickelte Präzisionsmesstische

Einstellknopf für X-Achse Einstellknopf für Y-Achse

Die optische Technologie von Nikon und die weiterentwickelten Messtische ermöglichen äußerst präzise Messungen.

MM-800Modell mit großem Objekttisch

110 mm

*1×/3×/5×/10×

150 mm 200 mm

1×/3×/5×/10×/20×/50×/100×

MessmikroskopeVerschiedenste Messmikroskope steht zur Auswahl, die sich durch hohe Präzision und Bedienkomfort auszeichnen.


Max. Werkstückhöhe

Objektiv vergrößerung

Optischer Messkopf

X-Y-Z

CCD

Objekttisch- größe/ Tragkraft

50 × 50 mm / 5 kg100 × 100 mm / 15 kg150 × 100 mm / 15 kg200 × 150 mm / 20 kg250 × 150 mm / 20 kg300 × 200 mm / 20 kg

MonokularBinokular2 Achsen3 Achsen


13

Datenverarbeitungssystem für Messmikroskope und Profilprojektoren

*1: Tatsächliches Sichtfeld = Effektiver Bildschirmdurchmesser / Objektivvergrößerung*2: Die maximale Objekthöhe beträgt 70 mm, wenn ein 200 × 150 mm Objekttisch installiert ist.

V-20BV-12B

Datenverarbeitungssoftware

Diese Einstellhilfe bietet dem Bediener vielfältige fortgeschrittene Mess- und Datenverarbeitungsfunktionen. Die automatische Kantenerkennung und die Bildverarbeitung im Sub-Pixel-Bereich ermöglichen präzisere und wiederholbare Messungen.

Datenprozessor Messsoftware

U-DP

Die browser-basierte Geometriemesssoftware kann unkompliziert über LAN oder WLAN mit anderen Geräten verbunden werden. Die interaktive Navigation ermöglicht ein direktes Arbeiten und Messergebnisse lassen sich einfach auf der übersichtlich gestalteten Anzeige bestätigen.

[Systemvoraussetzungen]Betriebssystem: Windows®XP, Windows®7Speicherbedarf: 2 GB (mind.)Empfohlene Browser: Windows® Internet Explorer V 6.0.2.9 oder höher

Bei Anschluss an einem Profilprojektor sind ein Retrofit Counter und DP-Einheiten erforderlich.

Modell mit großer MattscheibeTischmodell

V-24B

E-MAX

In Kombination mit einem Messmikroskop/Profilprojektor ist er besonders effektiv: Messdaten werden schnell berechnet und verarbeitet. Der merkmalsorientierte Betrieb des DP-E1 bietet dem Bediener die Möglichkeit, grafikbasierte Messungen auszuführen und eine nahtlose Messumgebung herzustellen.

DP-E1

Modell mit großer Mattscheibe

Bei Anschluss an einem Profilprojektor sind nur Datenverarbeitungsfunktionen verfügbar

250 mm600 mmInvers

5×/10×/20×/50×/100×60 mm

(Extern)

100 mm*2

305 mmAufrecht

5×/10×/20×/25×/50×/100×/200×30,5 mm

150 mm500 mmInvers

5×/10×/20×/50×/100×50 mm

ProfilprojektorenDie Profilprojektoren von Nikon wenden das optische Prüfprinzip auf die Inspektion von Werkstücken an. Dabei wird die vergrößerte Abbildung des Prüflings auf die Mattscheibe projiziert.


Objekttisch- größe/ Tragkraft

Max. Werkstückhöhe Bildschirm Bild ProjektionObjektiv

Digitaler WinkelmesserDigitaler Zähler

50 × 50 mm / 5kg100 × 100 mm / 15 kg150 × 100 mm / 15 kg200 × 150 mm / 20 kg250 × 150 mm / 20 kg225 × 100 mm / 30 kg

VergrößerungSichtfeld (mit 10×

Objektiv)*1


14 Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

DIGIMICRO, das fotoelektronische Mikrometer mit eingebautem Digitalzähler, wird für die fehlerfreie Kontaktmessung und Prüfung von Abmessungen, Breite und Tiefe eingesetzt.

0 – 100 mm3 μm

Abwärts 1,225 bis 1,813 N (variabel bis ca. 0,441 N), seitlich 0,637 bis 1,225 N

GrundgerätMessbereichGenauigkeit (bei 20 °C)Messkraft

Betriebstemperatur

MF-10010 – 15 mm

0,7 μmAufwärts 0,245 N, Abwärts 0,637 N, seitlich 0,441*Mit Höhenverstellung

MF-501 MH-15M0 – 50 mm

1 μmAbwärts 1,127 bis1,617 N (variabel bis ca. 0,294 N), seitlich 0,637 bis 1,225 N

0 bis 40 ˚C

BeobachtungsmethodeAuflösung des MesssystemsMessbereichKleinste Anzeige

6B-LED: Hellfeld, 6D-LED: DunkelfeldAnpassung im Sichtfeld und Ablesung auf Mikrometer

30 Bogenminuten (in vertikalen und horizontalen Achsen)0,5 Bogensekunden

6B-LEDHellfeldausführung

Bedient sich der legendären Nikon Optik, um Oberflächendetails zu beleuchten.

30

200 10 20 30

1div=1min

0

10

0 10 20 30

30

20

1div=1min

0

10

30

200 10 20 30

1div=1min

0

10

0 10 20 30

30

20

1div=1min

0

10

Grundgerät MF-1001 + Zähler MFC-101 + Ständer MS-21

DIGIMICRO

AutokollimatorenEin Autokollimator ist ein einfach bedienbares, aber präzises Instrument, das für die Messung und Überprüfung der Neigung, der Parallelität, der Rechtwinkligkeit, der Geradlinigkeit von Präzisionsteile an beweglichen Maschinenkomponenten und für vieles mehr eingesetzt wird.

Perfekt geeignet zum Messen kleiner, flacher Spiegel

Grundgerät MF-501 + Zähler MFC-101 + Ständer MS-11C

6D-LEDDunkelfeldausführung

Beide Seiten sind genau parallel und ermöglichen die Verwendung des Spiegels als Referenz für nicht-reflektierende Flächen. Auch hilfreich zum Messen extrem kleiner Winkel, wo ein kleinerer Spiegel wünschenswert ist.*Holzbox im Lieferumfang enthalten

30 mm12 mm

2 Bogensekunden

AußendurchmesserStärkeParallelität

Planspiegel C

LED-Beleuchtungssystem zur Nachrüstung der Autokollimator 6B/6D-Beleuchtung.

LED-Beleuchtung AC-L1

2 St. AA Batterien, AC AdapterStromversorgung

Optisches Ebenheitsmaß / Optisches Parallellitätsmaß / 300 mm Standardmaßband

15

Das optische Ebenheitsmaß wird verwendet, um die Ebenheit von spiegelglatten endbearbeiteten Oberflächen zu prüfen. Der Ebenheitsgrad kann anhand der Interferenzen beobachtet werden, die auftreten, wenn das optische Ebenheitsmaß am Werkstück angelegt wird.

Optisches Ebenheitsmaß

15 mm0,1 μm

Durchmesser.StärkeEbenheit

Glas (ø 60 mm)27 mm0,1 μm

Beide Ebenen des optischen Parallelitätsmaßes sind genau eben und parallel.Es dient dazu, den Ebenheits- und Parallelitätsgrad eines Werkstücks anhand der Interferenzen zu prüfen, die auftreten, wenn das optische Parallelitätsmaß am Werkstück angelegt wird.

30 mm12 mm / 12,12 mm / 12,25 mm / 12,37 mm

innerhalb von 0,1 μminnerhalb von 0,2 μm

Durchmesser.StärkeEbenheitParallelität

ab

Optisches Parallelitätsmaß

300 mm Standardmaßband

Misst die lineare Verfahrgenauigkeit des Messtischs auf bis zu 300 mm Länge. 10 mm-Sensorkreuz und Kalibriermaße im Lieferumfang enthalten. Hergestellt aus Glas mit niedrigem Wärmeausdehnungskoeffizienten, um Temperatureinflüsse zu minimieren.*Im Bereich von 1 µm gegenüber Kompensationswerten


Glas (ø 130 mm)

*Präzisere optische Ebenheits- und Parallelitätsmaße sind auf Anfrage erhältlich.

16

Alle Angaben ohne Gewähr. Änderungen vorbehalten. März 2014 ©2014 NIKON CORPORATIONHinweis: Der Export der in diesem Prospekt aufgeführten Produkte unterliegt der Kontrolle durch das das japanische Devisen- und Außenhandelsgesetz. Das entsprechende Exportverfahren ist bei einem Export aus Japan einzuhalten. *Produkte: Hardware und die entsprechenden technischen Daten (einschließlich Software) • Bildschirmanzeigen sind simuliert.. Die in dieser Broschüre aufgeführten Firmen- und Produktnamen entsprechen ihren eingetragenen Warenzeichen.

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