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SS 09 Oberflächenphysik

Methoden der Oberflächenphysik: Struktur

Rastertunnelmikroskopie

und

Rasterkraftmikroskopie

SS 09 Oberflächenphysik

Gliederung

• Kleine Geschichte der Mikroskopie

• Prinzip der Rastertunnelmikroskopie (RTM)

- Quantenmechanische Grundlage

- In der Praxis

• Beispiele aus der Anwendung

• Prinzip der Rasterkraftmikroskopie (AFM)

- Betriebsmodi / Kräfte

• Abbildungsfehler/Artefakte

• Anwendungsbeispiele

SS 09 Oberflächenphysik

Historische Entwicklung der Mikroskopie

Begrenzung der Auflösung durch die Wellenlänge des verwendeten Lichts

• Lichtmikroskop

SS 09 Oberflächenphysik

Historische Entwicklung der Mikroskopie

• Lichtmikroskop

• Elektronenmikroskop

Ernst Ruska1933

SS 09 Oberflächenphysik

Historische Entwicklung der Mikroskopie

• Lichtmikroskop

• Elektronenmikroskop

• Feldionenmikroskop

Erstmals Abbildung einzelnerAtome 1955.

Beschränkung auf dieUntersuchung sehr dünnerSpitzen ausgewählterMaterialien!

Erwin WilhelmMüller, 1951

Das Feldionenmikroskop, Z.Phys. 131, 136 (1951)

SS 09 Oberflächenphysik

Historische Entwicklung der Mikroskopie

Russel Young 1971

• Lichtmikroskop

• Elektronenmikroskop

• Feldionenmikroskop

• Topografiner

SS 09 Oberflächenphysik

Historische Entwicklung der Mikroskopie

Gerd Binnig Heinrich Rohrer

Nobelpreis 1986zusammen mit

Ernst Ruska(Elektronenmikroskop)

Atomare Auflösung aufMetall- und Halbleiter-

Oberflächen

• Lichtmikroskop

• Elektronenmikroskop

• Feldionenmikroskop

• Topografiner

• Rastertunnelmikroskop

SS 09 Oberflächenphysik

Historische Entwicklung der Mikroskopie

Atomare Auflösungauch auf

nichtleitendenMaterialien möglich

• Lichtmikroskop

• Elektronenmikroskop

• Feldionenmikroskop

• Topografiner

• Rastertunnelmikroskop

• Rasterkraftmikroskop

SS 09 Oberflächenphysik

STM/AFM Vergleich

Rastertunnelmikroskopie (STM) :

• Bildet Oberflächen mit atomarer Auflösung ab

• Spitze mit Vorspannung rastert leitende Oberfläche

Tunnelstrom wird gemessen

• Information über Topographie und elektronische DOS

Rasterkraftmikroskopie (AFM) :

• Spitze rastert über eine Oberfläche

Kraft zwischen Spitze und Oberfläche wird gemessen

• Information über Topographie, Reibung und Adhäsion

Mit beiden Methoden können Oberflächen auch manipuliert werdenMit beiden Methoden können Oberflächen auch manipuliert werden

SS 09 Oberflächenphysik

Gliederung

• Kleine Geschichte der Mikroskopie

• Prinzip der Rastertunnelmikroskopie (RTM)

- Quantenmechanische Grundlage

- In der Praxis

• Beispiele aus der Anwendung

• Prinzip der Rasterkraftmikroskopie (AFM)

- Betriebsmodi / Kräfte

• Abbildungsfehler/Artefakte

• Anwendungsbeispiele

SS 09 Oberflächenphysik

Funktionsweise eines RTM

KlassischeMechanik

Annäherung einer (aufatomarer Skala) scharfenmetallischen Spitze an eineOberfläche bis auf wenigeAtomabstände Tunnelstrom fließt

LogarithmischeAbstandsab-hängigkeit desTunnelstroms!

Wie entsteht der Tunnelstrom?

QuantenmechanikTunnel-effekt!

SS 09 Oberflächenphysik

Tunnelstrom durch Barriere

Metall-Vakuum-Metall Übergang

Tunnelstrom:

I V S e-2ka k = =

V = Spannung Spitze/Probe

S = Lokale Zustandsdichte der Probe

a = Breite der Barriere

= Austrittsarbeit

~ 4 eV k ~ 1 Å-1

Strom sinkt um Faktor e2 ~ 7.4 pro Å

Abstand kann sehr genau kontrolliert werden

SS 09 Oberflächenphysik

Fotos von Atomen?

Si(111) 7x7

2.4 V - 2.4 V

M. Herz, F. J. Giessibl, J. Mannhart Phys. Rev. B 68, 045301 (2003)

SS 09 Oberflächenphysik

Bardeen Tunneltheorie

SS 09 Oberflächenphysik

Bardeen Tunneltheorie

A. D. Gottlieb, L. Wesoloski Nanotechnology 17, R57 (2006)

(B1) Elektron-Elektron Wechselwirkung vernachlässigbar

(B2) Besetzungswahrscheinlichkeiten von Spitze und Probe sind unabhängig und ändern sich nicht beim Tunneln

(B3) Spitze und Probe sind im elektrochemischen Gleichgewicht

(O1) Tunneln ist kleine Störung Störungstheorie 1. Ordnung

PP

S

k

(O2) Zustände der Spitze und Probe fast senkrecht zueinander

SS 09 Oberflächenphysik

Bardeen Tunneltheorie

Übergangsrate für Elektron von Probenzustand P in Spitzenzustand S:

P

s

s

• gilt auch für Übergangsrate von Spitze zu Probe

• immer! Näherung wg. (O2)

• bei bekannten Zuständen für Spitze und Probe

Tunnelstrom

M 2 ( kS, P) P(Ek

S - E)

kS P P

A. D. Gottlieb, L. Wesoloski Nanotechnology 17, R57 (2006)

SS 09 Oberflächenphysik

Tunnelstrom

+-

Spitze Probe

Probe Spitze

S

S P

P

niedrige Temperatur:

0

eV

PT (E

F + )

S

Mittelwert von M2( n)

Für Metall-Spitze mit freien Elektronen:

RTM Spektroskopie

A. D. Gottlieb, L. Wesoloski Nanotechnology 17, R57 (2006)

SS 09 Oberflächenphysik

Matrixelemente

nP

j S

nP

j S

j S

nP

j S

j S

nP

nP

Anstatt Volumenintegral, berechne Fluss durch „Trennungsfläche“

Spitze Probe

n

T

A. D. Gottlieb, L. Wesoloski Nanotechnology 17, R57 (2006)

SS 09 Oberflächenphysik

Näherung für die Spitze

J. Tersoff and D. R. Hamann, Phys. Rev. B 31, 805 (1985)

Tunnelstrom proportional zur elektronischen Zustandsdichte bei r0,hervorgerufen durch die Wellenfunktionen der Probe bei quasi Efermi μ

(gilt nur für kleine Spannung!)

Wellenfunktion der Spitze

inv. Abklinglänge derWellenfunktion in Vakuum

SS 09 Oberflächenphysik

Zustandsdichte in Abhängigkeit von Abstand

Au(110)

(2x1) (3x1)

SS 09 Oberflächenphysik

Spektroskopie

SS 09 Oberflächenphysik

Einfluss der Stromrichtung

Si(111) 7x7

2.4 V - 2.4 V

unbesetzte Zustände besetzte Zustände

M. Herz, F. J. Giessibl, J. Mannhart Phys. Rev. B 68, 045301 (2003)

SS 09 Oberflächenphysik

Einfluss der Spitze

Spitze

Probe

s pz pz pz

pzs dz

2 fz3

Si Spitze (pz) Co Spitze (dz2) Sm Spitze (fz

3)

SS 09 Oberflächenphysik

Oberflächenrekonstruktion

Si (111) 7x7

SS 09 Oberflächenphysik

Oberflächenrekonstruktion

SiC (000) 3x3

besetzte Zustände unbesetzte Zustände

SiC (000) 3x3

SS 09 Oberflächenphysik

Gliederung

• Kleine Geschichte der Mikroskopie

• Prinzip der Rastertunnelmikroskopie (RTM)

- Quantenmechanische Grundlage

- In der Praxis

• Beispiele aus der Anwendung

• Prinzip der Rasterkraftmikroskopie (AFM)

- Betriebsmodi / Kräfte

• Abbildungsfehler/Artefakte

• Anwendungsbeispiele

SS 09 Oberflächenphysik

Abbildungsqualität

SS 09 Oberflächenphysik

Spitzenpräparation

W-wire

plastic tubes

d = 0.5 mm

fixed length 8 mm

+-

F. Matthes, IFF-9

Elektro-chemisches Ätzen

drop of 0,075 ml 5 mol NaOH

SS 09 Oberflächenphysik

Spitzenpräparation

Aufnahmen mit dem Rasterelektronenmikroskop (REM)

Tip length 440 μm

nach Elektronenstrahl-Heizen

Radius ~60 nm

1000 V

Heater: 6s @ 4.5mA

SS 09 Oberflächenphysik

Spitzenpräparation

Präparation im Vakuum:

• Feldemission durch Anlegen hoher Spannungen

• Ätzen durch Ionenbeschuss

• Sanfte Berührungen der Probenoberfläche

tip crash

SS 09 Oberflächenphysik

~ 0.1 - 3 V

Piezoelektrischer Effekt: Piezoelektrische Kristalle können durch Anlegeneiner elektrischen Spannung verkürzt oder verlängert werden!

SpitzeTunnelstromOberfläche

Piezo-Elemente

Tripod: Laus:Probe

PiezoelektrischePlatte

Grobannäherung:

Positionierung

Röhrenscanner:

Elek-troden

Beetle:

Probe

Spitze

SS 09 Oberflächenphysik

Messmodi

Konstant-Strom-Modus Konstant-Höhen-Modus

SS 09 Oberflächenphysik

Rampen

~ 0.1 - 3 V

• Exakte Positionierung (Grob- und Feinannäherung)

• Möglichst rauscharme Messung sehr geringer Ströme (~ nA). Aufwendige Elektronik sowie Software für Datenaufnahme.

• Aufwendige mehrstufige Schwingungsdämpfung (Wirbelstromdämpfung, Pneumatische Schwingungsisolation, Federn, ...)

Experimentelle Anforderungen

SS 09 Oberflächenphysik

Gliederung

• Kleine Geschichte der Mikroskopie

• Prinzip der Rastertunnelmikroskopie (RTM)

- Quantenmechanische Grundlage

- In der Praxis

• Beispiele aus der Anwendung

• Prinzip der Rasterkraftmikroskopie (AFM)

- Betriebsmodi / Kräfte

• Abbildungsfehler/Artefakte

• Anwendungsbeispiele

SS 09 Oberflächenphysik

Zeitaufgelöste RTM

Konstant-Höhen-Modus

Dynamische Prozesse auf der Oberfläche direkt

beobachtbar mit einer Frequenz von bis zu 60 Hz

Sauerstoff auf Ruthenium(FHI-Berlin)

Für viele oberflächenspezifischeProzesse reicht diese zeitliche

Auflösung bei weitem nicht ausund andere Methoden müssen

herangezogen werden.

SS 09 Oberflächenphysik

Fulleren-Nanoröhrchen

C60Fulleren

Nanoröhrchen

Alle chemischenBindungenabgesättigt

hohe Stabilität

Kroto, Smalley, CurlNobelpreis 1996

Erstaunliche Eigenschaften:• sehr leicht (nur aus Oberfläche bestehend)• härter als Stahl• mit sehr hoher Leitfähigkeit herstellbar•.....

C. E. Giusca et al.,

Nanoletters 07

SS 09 Oberflächenphysik

Peapods

D. J. Hornbaker et al., Science `02

positive bias

negative bias

SS 09 Oberflächenphysik

RTM bei variabler Temperatur (VT-RTM)

• Temperaturänderungen bewirken häufig Übergänge zwischen verschiedenen Oberflächenphasen, diese Übergänge können somit direkt beobachtet werden

• Bei sehr tiefen Temperaturen bewegen sich Atome auf Oberflächen praktisch nicht mehr. Verschiebt man mit der Tunnelspitze solche Atome „gewaltsam“, kann man deren Anordnung fast beliebig beeinflussen.

SS 09 Oberflächenphysik

Manipulation einzelner Atome

SS 09 Oberflächenphysik

Manipulation einzelner Atome

SS 09 Oberflächenphysik

Manipulation einzelner Atome

SS 09 Oberflächenphysik

Manipulation einzelner Atome

B. Voigtländer, FZ-Jülich IBN-3

CO Moleküle auf Cu (111)

http://www.fz-juelich.de/ibn/group_voigtlaender

SS 09 Oberflächenphysik

Oberflächenzustände

http://www.almaden.ibm.com/vis/stm/gallery.html

Don Eigler (IBM, Almaden)

48 Fe atoms on Cu(111)

SS 09 Oberflächenphysik

„Quanten Wunder“

D.A. Eigler et al. Nature, 2. Feb. 2000http://www.almaden.ibm.com/almaden/media/image_mirage.html

• Ellipse aus 36 Kobalt Atomen auf Cu Substrat

• einzelnes Kobalt Atom in Fokuspunkt

• einige Eigenschaften erscheinen am anderen Fokus

• Größe und Form der Ellipse bestimmen Weg der „Information“

SS 09 Oberflächenphysik

„Quanten Wunder“

D.A. Eigler et al. Nature, 2. Feb. 2000http://www.almaden.ibm.com/almaden/media/image_mirage.html

• Magnetismus des Co Atoms verändert Oberflächen-Elektronen

Kondo-Resonanz

• Co Atom nicht im Fokus

extra Resonanz verschwindet

SS 09 Oberflächenphysik

Kommerzielle Systeme

SS 09 Oberflächenphysik

Gliederung

• Kleine Geschichte der Mikroskopie

• Prinzip der Rastertunnelmikroskopie (RTM)

- Quantenmechanische Grundlage

- In der Praxis

• Beispiele aus der Anwendung

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- Betriebsmodi / Kräfte

• Abbildungsfehler/Artefakte

• Anwendungsbeispiele

SS 09 Oberflächenphysik

Rasterkraftmikroskop

Rastern

SS 09 Oberflächenphysik

Vertikale und laterale Kraftmessung

SS 09 Oberflächenphysik

Kräfte und Messmodi„Contact“ Modus

dc Betrieb F = k · X

k: FederkonstanteX: Cantilever Ablenkung

z = f(x,y), F konst.

„Non-contact“ Modusac Betriebkleine Amplitude

z = f(x,y), F‘ konst.

langreichweitige Kräfte

„Tapping“ Modus

ac Betrieb

große Amplitude

bei weichen Materialienschonender als „contact“

SS 09 Oberflächenphysik

„Contact“ Modus

• Sanfter physischer Kontakt mit Probe

• Benutzt abstoßende ionische Kräfte (10-9 N)

• Geeignet für härtere Materialien

- Metalle, Keramiken, Polymere, …

• Kann abrupten Kanten und hohen steilen Formen nicht folgen

• Cantilever billiger als die für andere Modi

• Einfacher einzustellen und zu benutzen als die anderen Modi

• Kann laterale Reibungskräfte auf der Probenoberfläche

aufnehmen

SS 09 Oberflächenphysik

„Non-contact“ Modus

• Cantilever schwingt nahe der Oberfläche

• Benutzt Van der Waals, elektrostatische, magnetische oder

Kapillarkräfte für die Bilderzeugung

• Sehr kleine Kraft zwischen Spitze und Probenoberfläche

• Geeignet für weiche oder elastische Proben

• Schwieriger zu messen als „contact“ Modus

• Cantilever teurer

SS 09 Oberflächenphysik

„Tapping“ Modus

• Schlüsselfortschritt für AFM Messungen

• Ähnlich zu Non-Contact Modus, Spitze berührt leicht die

Probenoberfläche

• Überwindet Probleme mit Reibung, Adhäsion,

elektrostatischen Kräften etc.

• Geeignet für alle Oberflächen

• Schädigt Proben weniger als Contact, da keine Lateralkräfte

wirken können

• Cantilever teurer

SS 09 Oberflächenphysik

„Tapping“ Modus

SS 09 Oberflächenphysik

Verschiedene Abbildungen

Gefriergebrochener Styrol – Isobultylen – Styrol a-b-a Block Kopolymer-Filmvon: http://www.psrc.usm.edu/mauritz/afm.html

Höhen Bild

Amplituden Bild

Phasen Bild

SS 09 Oberflächenphysik

Abbildungsmodi

SS 09 Oberflächenphysik

Messungen bei konstantem Abstand

Messung in zwei Phasen:

Geeignet für z.B. elektrostatische oder magnetische Kräfte

1) Aufnahme der Topographie in

„Tapping“ oder „Contact“ Modus

2) System wiederholt die Spur ohne

Regelung in vorgegebener Höhe

misst langreichweitige Kräfte in

„non-contact“ Modus

SS 09 Oberflächenphysik

Kräfte

SS 09 Oberflächenphysik

Cantilever und Spitzen

Cantilever-Spitze Einheit typischer-weise aus Si oder Si3N4

Charakterisiert durch:

Spitzenradius (typ. 10 nm)

Federkonstante (0.1-100 N/m)

Resonanzfrequenz (5-500 kHz)

verschiedene Beschichtungen erhältlich

magnetische Cantilever erhältlich

SS 09 Oberflächenphysik

Spitzenform und Auflösung

RKurzreichweitige WW wie Tunnelstrom

Auflösung bestimmt durch Mikro-Spitze

Herstellung von STM Spitzen mit atomarer

Auflösung auf atomar flachen Terrassen „einfach“

Größere Probenstrukturen

Makroskopische Spitzengeometrie wird wichtig

SS 09 Oberflächenphysik

Gliederung

• Kleine Geschichte der Mikroskopie

• Prinzip der Rastertunnelmikroskopie (RTM)

- Quantenmechanische Grundlage

- In der Praxis

• Beispiele aus der Anwendung

• Prinzip der Rasterkraftmikroskopie (AFM)

- Betriebsmodi / Kräfte

• Abbildungsfehler/Artefakte

• Anwendungsbeispiele

SS 09 Oberflächenphysik

Bildinterpretation

SS 09 Oberflächenphysik

Artefakte

Abgeflachte Spitze

=> „Dreiecke“ bilden Spitze ab

Doppel-Spitze => „Geisterbild“ bei hohen Objekten

Kraftinduzierte Artefakte

Kapillarkräfte

SS 09 Oberflächenphysik

Gliederung

• Kleine Geschichte der Mikroskopie

• Prinzip der Rastertunnelmikroskopie (RTM)

- Quantenmechanische Grundlage

- In der Praxis

• Beispiele aus der Anwendung

• Prinzip der Rasterkraftmikroskopie (AFM)

- Betriebsmodi / Kräfte

• Abbildungsfehler/Artefakte

• Anwendungsbeispiele

SS 09 Oberflächenphysik

Kraftspektroskopie

Annäherung

Rückzug

SS 09 Oberflächenphysik

AFM in Flüssigkeit

SS 09 Oberflächenphysik

Messungen an Ferroelektrika

AFM erzeugt ferroelektrische Domänen in Substrat und bildet diese ab

Feldverteilung um die Spitze

SS 09 Oberflächenphysik

„Dip-Pen“ Litographie

SS 09 Oberflächenphysik

„Tinten“

Weiche Materialien

• kleine funktionelle Moleküle

• SAMs

• Leitende Polymere

• Biopolymere/ Makromoleküle

Harte Materialien

• Metall Tinten

• Sol Prekursoren

• Nanoteilchen Katalysatoren

SS 09 Oberflächenphysik

Self-assambly

90 minuten „Echtzeit“

Substrat: HOPG

Ausrichtung wird in „Tapping“ Modus nicht verändert

C60 „Federbälle“

SS 09 Oberflächenphysik

Manipulation

H-terminiertes Si wird lokal oxidiert

Pt/Cr Beschichtung auf Si Spitze

SS 09 Oberflächenphysik

ManipulationU = -10 V U = -3 V

SS 09 Oberflächenphysik

Andere Abkürzungen…