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Kristallstruktur und Mikrostruktur Teil II Vorlesung 2

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Kristallstruktur und Mikrostruktur

Teil II

Vorlesung 2

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6/m 2/m 2/m

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Teil II

1 Erstarrung: Grundlagen

2 Erstarrung: Wachstum und Gefüge

3 Praktische Aspekte: Schweißen; Thermisches Spritzen

4 Texturanalyse

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Teil II

Vorlesung 2

Erstarrung von Legierungen mit Konzentrationsunterschieden

Kristallwachstum

kontinuierliches Wachstum

laterales Wachstum

Gefüge

reine Metalle

Legierungen

eutektische Legierungen

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Erstarrung

Erstarrung ohne Konzentrazionsunterschieden L → a (1)

(Vorlesung II-1)

Erstarrung mit Konzentrazionsunterschieden L → L' + a (2)

La

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Erstarrung mit Konzentrazionsunterschieden

Grenzfälle:

1. schnelle Diffusion in der Schmelze und im Festkörper

2. niedrige Diffusion im Festkörper, sehr höhe Diffusivität in der Schmelze

3. niedrige Diffusion im Festkörper, nur ‘normale’ Diffusivität in der Schmelze

L

Homogene Schmelze

A B

A

Gebiete (Partikeln) mit

unterschiedlicher Zusammensetzung

?

L → L‘ + a

A

BL‘

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Größenordnung von D in Schmelzen

Diffusionsprozeß T [K] Diffusionskonstante [cm2/s]

Si in Ge 1683 3 x 10-4;

Cu in Cu 1356 5 x10-5;

Na in Na 644 4 x 10-5;

Kinetische Theorie D ~ T2;

Arrhenius D = Do exp( -Q/kBT)

Al in Ga-Schmelze

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Erstarrung mit Konzentrazionsunterschieden

lineare Annäherung

möglich nur in binären Systemen oder in Systemen mit mehreren Komponenten!

L → L‘ + Al

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Erstarrung mit Konzentrazionsunterschieden

T = T* - kLXL (3a)

T = T* - kSXS (3b)

k = kL/kS < 1

XS – Konzentration von B im Kristall

XL – Konzentration von B in der SchmelzeT*

Eine Schmelze mit Zusammensetzung Xo

beginnt zu erstarren bei Temperatur T1.

Wie viel ist XS bei T1?

Easterling (2009)

A B

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Erstarrung mit Konzentrazionsunterschieden

T*

L

S L

T = T1 ~0 kXo < Xo

L T = T2 ↑

T = T3 100% Xo < Xo/k

Volumenfraktion Konzentration von B

Wärme

schnelle Diffusion in der Schmelze und im Festkörper

Hauptfragen:

# die Volumenfraktion der Phasen?

# die Zusammensetzung der Phasen?

FS XS XL

Erstarrung eines Stabes mit planarem Interface

k = kL/kS < 1

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Erstarrung mit Konzentrazionsunterschieden

T1 < T < T3

Die Schmelze und der Festkörper sind homogen mit

Zusammensetzungen entlang dem Liquidus und dem Solidus.

T=T1 XS = kXo, XL = X0

T1 > T > T3 XS = (T* - T)/kS (3a)XL = (T* - T)/kL (3b)

T=T3 XS = Xo, XL = Xo/k

starke Diffusion in der Schmelze und im Festkörper

S

L

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Erstarrung mit Konzentrazionsunterschieden

niedrige Diffusion im Festkörper, sehr höhe Diffusivität in der Schmelze

schnelles Abkühlen, Rühren der Schmelze

Erstarrung beginnt wieder bei der Temperatur T1

XS = kXo bei T1; XS = Xo bei T3

Erstarrung eines Stabes mit planarem Interface

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Erstarrung mit Konzentrazionsunterschiedenniedrige Diffusion im Festkörper, höhe Diffusivität in der Schmelze

T1 < T < T3

Scheil Gleichung XS = kXo(1 – FS) (k-1)

Die Schmelze bleibt homogen mit Zusammensetzung entlang dem Liquidus.

In dem Festkörper entsteht ein Konzentrationsgradient.

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Ausgleich der Konzentrationsunterschiede im Kristall nicht möglich

(k = kL/kS < 1, (1 –FS) (k-1) > 1; XS > kXo)

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Erstarrung mit Konzentrazionsunterschieden

niedrige Diffusion im Festkörper, nur ‘normale’ Diffusivität in der Schmelze

T ~ T1

kXo < XL = Xo

Erstarrung eines Stabes mit planarem Interface

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Erstarrung mit Konzentrazionsunterschieden

niedrige Diffusion im Festkörper, nur‘normale’ Diffusivität in der Schmelze

T1 < T < T3

konstante Erstarrungsgeschwindigkeit n

Konzentrationgradienten sowohl in der Schmelze als

auch im Festkörper

0

11 exp

/L

k xX X

k D v

(5)

Front

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Erstarrung von LegierungenPlanar Interfaces - Zusammenfassung

Gottstein (2001)

die durchgehenden Linien – Konzentrationsverlauf

bei der angegebenen Interface-

Position

die gestrichelten Linien - die Zusammensetzungen des Kristalls

und der Schmelze bei der Bewegung

der Front durch den Stab (Tigel)

co = Xo

c1 = kXo

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Kristallwachstum

~ 0.1 mm/Jahr

Die Kristallisationsgeschwindigkeit Ġ in metallischen Schmelzen

ist abhängigt von der Unterkühlung (DT)

(DT = 10 K)

Pb 102 cm/s

Sn 14 cm/s

Bi 1 cm/sKobayashi et al. (1984)

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Kristallwachstum

Die atomare Struktur des Interfaces Wachstumsvorgang

# raue Grenzfläche viele energetisch kontinuierliches Wachstum

günstige Plätze

# glatte Grenzfläche laterales Wachstum

S

L

S

L

S

L

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Kristallwachstum

Jackson Parameter (a) [K. A. Jackson, Liquid Metal and Silidification, ASM, Kleveland, OH, 1958]

a ~ DS│Tm (NA/R) (6)

Vorlesung KM_II_1: DS│Tm ~ L/Tm;

a ~ (L/Tm) NA/ kBNA = L/kBTm (6‘)

D.P. Woodruff, The Solid-Liquid Interface, Cambridge Uni Press, 1973

Jackson Regel:

a < 2 entstehen raue Grenzflächen

a > 2 enstehen glatte Grenzflächen (*)

Bi Ġ ~ 1 cm/s

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Kristallwachstumkontinuierliches Wachstum

L

S

Der Flux L → S

JLS ~ AS nL nL exp(-DGa/RT) 7a

Der Flux S → L

JSL ~ AL nS nS exp[- (DGa

+ DGv)/RT] 7b

AL & AS Akkomodationkoeffizienten

DGa

– Aktivierungsenergie für Diffusion

nL und nS – Zahl von Atomen/m2

nL und nS – Schwingungsfrequenz (Hz)

Bedingung für Wachstum: J = JLS – JSL > 0 (8a)

J = AS nL nL exp(-DGa/RT) - AL nS nS exp[- (DG

a+ DGv)/RT] (8b)

Easterling (2009)

T ≤ Tm

~ QDiff

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Kristallwachstum

kontinuierliches Wachstum

gesamter Flux

T > Tm , J < 0 Der Kristall schmilzt.

bei T = Tm DGV = 0 (Vorlessung KM_II_1) und J = 0 und DGa = 0 →

AS nL nL = AL nS nS (8c)

T < Tm

J = AS nL nL exp(-DGa/RT){ 1 - exp(- DGv/RT)} (9a)

Raue Grenzflächen → die Ablagerung der Atome ist überall möglich →

AS ~ 1

J = nL nL exp(-DGa/RT){ 1 - exp(- DGv/RT)} (9b)

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Kristallwachstum

kontinuierliches Wachstum

Grenzflächengeschwindigkeit

Per Definition: v = JVm/NA

v = Vm/NA exp(-DGa/RT){1 – exp(-DGv/RT)} (10a)

Taylorentwicklung unter der Annahme DGv/RT << 1

V ~ Vm/NA exp(-DGa/RT) DGv/RT; v = M DGv (10b)

Die Mobilität M = (Vm/NART) exp(-DGa/RT) (10c)

Vorlesung KM_II_1 : DGv ~ LDT/Tm → v = C DT (10d)

C = M L/ Tm

Gottstein (2001)

Al - Ga

Gl. (9b)

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Kristallwachstum

kontinuierliches Wachstum

Grenzflächengeschwindigkeit

Kobayashi et al. (1984)

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Kristallwachstum

laterales Wachstum

(glatte Grenzflächen)

nicht stabile Konfiguration

Abtrennungsrate hoch

2D – Insel

(stabile Konfiguration)

Terrassen (Ledges)

Ecken (Jogs)

S

L

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Kristallwachstum

laterales Wachstum

(glatte Grenzflächen)

Wie entstehen Ledges und Jogs?

Oberflächenwachstum

durch thermische Fluktoationen

entsehen stabile 2D-Inseln

Spiralenwachstum

Schraubenversetzungen bieten viele Kanten und Ecken

keine kritische 2D-Inseln notwendig

Easterling (2009) Jog

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Kristallwachstum

laterales Wachstum(glatte Grenzflächen)

Keimbildung von 2D-Inseln

DGI = - pr2aDgV + 2prag (11a)

a – die Inselhöhe

Kritischer Radius:

rI* = g/ DgV (11b) r < r* die Inseln schrumpfen

r > r* die Insel wachsen

Kritische Energie für Bildung von stabilen 2D-Inseln:

DGI* = pag2/DgV (11c)

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KristallwachstumVergleich laterales und kontinuierliches

Wachstums

Die notwendige Unterkühlung ist

die kleinste für das kontinuierliche Wachstum

Easterling (2009)

Kontinuierliches Wachstum

v ~ C DT

Spiralformiges Wachstum

v ~ kSW(DT)2

Oberflächen-Wachstum

v ~ exp(-kOW/DT)

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Gefüge

reine Metalle Legierungen Eutektische Legierungen

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Gefüge I(reine Metalle, kongruente Legierungen)

Grenzfälle:

Wärmeabfuhr durch den Kristall

Wärmeabfuhr durch die Schmelze

Die Morphologie der Gefüge für reine Metalle wird hauptsächlich durch die

Wärmeabfuhr bestimmt.

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Wärmeabfuhr durch den Kristall

Ein Kristall (Keim) formiert sich durch Fluktuationen

Bei T > Tm der Kristall schmilzt

die Erstarrungsfront bleibt lokal stabil und planar

So entstehen globulare Körner

überhitzte Schmelze T > Tm

Gefüge I

(reine Metalle, kongruente Legierungen)

schematische Darstellung von

globularem Wachstum

Zinn-Teilchen (Gottstein 2001)

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Wärmeabfuhr durch die Schmelze

unterkühlte Schmelze

Gefüge I(reine Metalle, kongruente Legierungen)

Gottstein (2001)

Ein Kristall formiert sich durch Fluktuationen

Der Kristall wächst (lokal) bei grösserer Unterkühlung →

Die Wachstumsgeschwindigkeit wird grösser →

Der Kristall wächst schneller und bleibt stabil.

Das Interface wird lokal nicht mehr planar

thermische Dendritbildung

v = C DT !

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Dendriten von SuccinonitrilGottstein (2001)

schematische Darstellung von

Dendritenwachstum

Easterling (2009)

Gefüge I

(reine Metalle, kongruente Legierungen)

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Gefüge IIErstarrung von Legierungen

Grenzfall: niedrige Diffusion im Festkörper, normale Diffusivität in der Schmelze

→ Konzentrazionsgradient in der Schmelze in der Nähe der Front.

Die Liquidustemperatur rechts von der Erstarrungsfront variert mit der Zusammensetzung.

TC

T > TC Überhitzung der Schmelze

T < TC (konstitutionelle) Unterkühlung der Schmelze

Die Steigung der kritischen Temperatur bei T3:

Steigung = ∂TL/∂x│T3 = (T1 – T3)/ (D/Ѵ)

x

Die Morphologie der Gefüge hängt sowohl von der Wärmeabfuhr

als auch von den Stoffinhomogenitäten in der Schmelze ab.

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Gefüge IIErstarrung von Legierungen

Die konstitutionelle Unterkühlung führt zu

Zellularwachstum und Dendritenbildung in

Legierungen

Zellular Wachstum – schematische Dartellung

(a) Die Erstarrungsfront ist planar;

(b) Ein Kristall ist formiert. Der Kristal hat

weniger gelöste Atome (kXo<Xo) → Der Rest

diffundiert lateral in die Schmelze.

(c) XL nimmt zu und TL nimmt ab

(konstituzionelle Unterkühlung)

(d) Neue ‚Finger‘ bilden sich

(e) zellulare Mikrostruktur entsteht.

A

B

B

C

C

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Gefüge IIErstarrung von Legierungen

zellulares Wachstum im CBr4

Eastering (2009)

Dendriten in einer Fe-24% Cr Legierung

Gottstein (2010)

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Gefüge IIErstarrung von Legierungen

Mathiesen et al., PRL (1999)

Pb Dendriten in Sn-52%Pb Schmelze

1 Etappe – planare Kristalle

2 Etappe – Dendrite senkrecht

zu der planaren Front

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Gefüge IIErstarrung von Legierungen

Al-30%Mg

Sunseri (2009)

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Gefüge III

Erstarrung eutektischer Legierungen

Eutektische Reaktion L → a + ß (12)

Typische Gefüge (Easterling 2009)

lamellenartige Gefüge

stabartige Gefüge

Gottstein (2001)

L(12at% Si) → Al(2%Si) + Si

Al-Fe Schmelze

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Gefüge III

Erstarrung eutektischer Legierungenlamellenartige Gefüge

Gefüge bei Cd-18% Zn

Gefüge in Al-Cu eutektischer Legierung

Eastering (2009)

Gottstein (2001)

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Gefüge III

Erstarrung eutektischer Legierungenlamellenartige Gefüge

Eastering (2009)

– der Lamellenabstand; Einheit [m].

die Lamellen sind senkrecht zu der Erstarrungsfront

die Erstarrungsfront

# Ein ß-Kristall formiert sich durch Fluktuationen

# die extra A-Atome diffundieren lateral in die Schmelze

# Die Übersättigung von A-Atomen links und rechts steigt →

# Zwei a-Mischkristalle kristallisieren links und rechts;

die extra B-Atome diffundieren lateral in die Schmelze

ß Mischkristall reich an B-Atomen

a-Mischkristall reich an A-Atomen

L

x

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Gefüge III

Erstarrung eutektischer Legierungenlamellenartige Gefüge

DG() =

= - DGCh + gab Aaß - DGCh + gab Vm/ ; (13)

DG() > 0 kein Lamellenwachstum

DG() < 0 Lamellenwachstum

Vorlesung KM-II-1, Gl. 10: DGch ~ L|DT|/TE ; Minimisierung von DG() →

* ~ gabVmTE/LDT (14) Kritischer Lamellenabstand

< * Lamellen-Wachstum nicht möglich

> * Lamellen-Wachstum möglich

DT *

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Gefüge III

Erstarrung eutektischer Legierungenlamellenartige Gefüge

~ (c/Ṙ) ½

(15)

Ṙ - Abkühlgeschwindigkeit; Einheiten [K/s]

Eutectic System c

[m(K/s)-1/2 ]

Ag-Pb 1.2x10-7

Cd-Pb 2.1x10-8

Cd-Zn 2.8x10-8

Pb-Sn 3.3x10-8

a-phase (Pb-rich, dark)

ß-phase (Sn-rich, light)

Unregelmäßigkeiten bei dem Lamellen-Aufbau:

Oscillationen

Kippen

Aufspaltung

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Gefüge III

Erstarrung eutektischer Legierungenlamellenartige Gefüge

Faivre (1996)

NN – Normalle

lamellenartige Gefüge

Osc – Oscillationen

T – Kippen

Stabile Lamelle

Spalten

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Übungen

Übungen 1 -5: Alle haben die Übungen bestanden, mit Ausnahme von

Jens Bauer

Daniel Bernath

Vanessa Jeske

Übungen 6-10: Dr Ralf Schaherl wird die Übungen betreuen

Letzte Übung am 24.01.2018: Übungsklausur